RO / NF清洗指南

本文件提供了在ST, ST+, ST++和DT-Module-Configuration中清洗纳米石RO或NF元素的通用指南。在正常操作过程中,膜元件可能会被给水中的成分所污染。最常见的污染物包括矿物垢、生物、有机、胶体颗粒和金属氧化物。污垢的性质取决于系统设计和给水。主动清洗是必要的,以减少不可逆污垢的可能性。如果膜被严重污染,清洗效果可能会降低,性能可能会受到永久性的影响。最低限度,应在以下情况下清洗反渗透/NF元件:
  • 标准化渗透流量下降10-15%
  • 归一化渗透物质降低10-15%
  • 归一化压降增加10-15%。
注: